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Électrogreffage de poly-4-vinylpyridine pour l'isolation d'interconnexions verticales de cuivre en intégration 3D de microsystèmes
(Université de Sherbrooke, 2017)L’amélioration des microsystèmes grâce à leur intégration en 3 dimensions (3D) est liée au développement des interconnexions verticales, appelées through silicion via (TSV). Afin d’obtenir une densité d’intégration maximum ...