Browsing Génie by Subject "Nanofabrication"
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Développement de films minces à base de nanoparticules diélectriques et optimisation de dépôt pour fabriquer des condensateurs de découplage utilisés dans des assemblages à haute densité de modules électroniques.
(Université de Sherbrooke, 2019)Dans le cadre de l’intégration tridimensionnelle (3D) associée à l’utilisation d’un nombre croissant de circuits intégrés (CIs), le besoin en condensateurs de découplage à forte densité de capacité (≥ 1 μF.cm-2), capables ... -
Développement de procédés technologiques pour une intégration 3D monolithique de dispositifs nanoélectroniques sur CMOS
(Université de Sherbrooke, 2016)Résumé : Le transistor monoélectronique (SET) est un dispositif nanoélectronique très attractif à cause de son ultra-basse consommation d’énergie et sa forte densité d’intégration, mais il n’a pas les capacités suffisantes ... -
Direct-write electron beam lithography in silicon dioxide at low energy
(2010)Abstract : Electron beam lithography in silicon dioxide has been investigated with energies ranging from 0.5 up to 6 keV. The etch ratio of SiO2SiO2 has been studied and interpreted with regard to the limited penetration ... -
Fabrication de mémoire monoélectronique non volatile par une approche de nanogrille flottante
(Université de Sherbrooke, 2013)Les transistors monoélectroniques (SET) sont des dispositifs de tailles nanométriques qui permettent la commande d'un électron à la fois et donc, qui consomment peu d'énergie. Une des applications complémentaires des SET ... -
Resistless electron beam lithography process for the fabrication of sub-50 nm silicide structures
(1997)We report on a study of the fabrication of submicron silicide structures with a resistless lithography technique. Several different metals can be used as a basis for producing silicide using this method; in this work, ... -
Réalisation et caractérisation opto-électrique d'un nanopixel à base de nanocristaux de silicium
(Université de Sherbrooke, 2009)Actuellement, plusieurs types de photodétecteurs sont disponibles sur le marché. Leurs performances se caractérisent notamment par la réponse spectrale, le courant d'obscurité, le rapport signal sur bruit, le rendement ... -
Selective dry etching of TiN nanostructures over SiO2 nanotrenches using a CI2/Ar/N2 inductively coupled plasma
(2016)Abstract : An inductively coupled plasma etch process for the fabrication of TiN nanostructures over nanotopography is presented. Using a Cl2/Ar/N2 plasma, a selectivity of 50 is achieved over SiO2. The effect of N2 flow ... -
Technology platform for the fabrication of titanium nanostructures
(2011)Abstract : This paper presents two approaches for the fabrication of top-down titanium nanostructures. The first approach involves electron beam lithography followed by a tailored titanium plasma etching. The two main ...
