Étude spectroscopique des dépositions de couches minces de Fe(CO)[indice]5 et de CpCo(CO)[indice]2 sur des substrats organiques stabilité thermique et processus induits par des électrons lents

Abstract

La déposition chimique en phase vapeur (DCV) est une technique très utilisée en micro-électronique et dans l'industrie des semi-conducteurs. Les mécanismes moléculaires mis en jeu durant les diverses étapes du processus ne sont pas encore bien compris. Le but de ce travail est dans un premier temps d'étudier les mécanismes d'adsorption de substances organométalliques sur des surfaces d'or et des surfaces constituées de monocouches auto-assemblées d'alcanethiols. Dans un second temps, on veut étudier les interactions de tels dépôts avec des électrons de faibles énergies puis avec de l'énergie thermique. La technique d'analyse employée dans cette étude est la spectroscopie infrarouge à transformée de Fourier par réflexion--absorption (FTIR-RAS). Cette technique d'analyse de surface nous donne de l'information non seulement sur la composition et la structure des composés déposés mais aussi sur le substrat organique enseveli sous le dépôt."--Résumé abrégé par UMI