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dc.contributor.advisorLasia, Andrzej
dc.contributor.authorLi, Yigen
dc.date.accessioned2021-02-12T18:52:44Z
dc.date.available2021-02-12T18:52:44Z
dc.date.created1996
dc.date.issued1996
dc.identifier.isbn0612154548
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11143/18062
dc.description.abstractLa déposition de l'or dans un bain de placage acide commercial (Ronovel N) a été étudiée au moyen de différentes techniques électrochimiques et microscopiques, se concentrant principalement sur les études de nucléation et de croissance des cristaux aux stades initiaux de la déposition. Le mécanisme et la cinétique de nucléation et de croissance des cristaux ont été déterminés pour la déposition de l'or dur et doux. Ils dépendent fortement du potentiel appliqué, de la composition de la solution et du substrat utilisé. Il fut déterminé à partir des mesures voltampérométriques et chronopotentiométriques qu'un phénomène d'auto-inhibition se produit durant la déposition de l'or à potentiels plus positifs. Une équation décrivant la dépendance du courant sur la vitesse de rotation de l'électrode tournante à disque a été dérivée en se basant sur l'hypothèse que la réduction du AuCN adsorbé se produit aux potentiels plus positifs. Cette hypothèse fut confirmée par les résultats obtenus à partir des mesures voltampérométriques. La nucléation et la croissance des cristaux durant la déposition de l'or dur furent étudiées par l'analyse des courbes chronoampérométriques en utilisant la méthode des moindres carrés non linéaires. La dépendance de l'inhibition de la croissance des cristaux sur le potentiel fut trouvée pour la déposition des deux types d'or, dur et doux, aux potentiels plus positifs. La constante de vitesse de nucléation pour l'or dur augmente avec la surtension, en accord avec la théorie atomistique. Toutefois, la nucléation de l'or doux est inhibée. Un modèle pour l'inhibition partielle de la croissance a été développé. Il fut basé sur l'hypothèse que la croissance des cristaux est partiellement inhibée et que la vitesse verticale de croissance des cristaux décroit exponentiellement jusqu'à une valeur constante aux temps longs. Le modèle développé combine le modèle de croissance en cônes circulaires et le modèle d'inhibition complète de la croissance. Il fut démontré que le modèle d'inhibition partielle de la croissance peut être appliqué à la déposition de l'or dur. Les courbes chronoampérométriques obtenues sur les substrats d'or, de carbone vitreux et de nickel aux potentiels plus négatifs sont bien décrites par ce modèle. Il fut trouvé que l'inhibition de la croissance des cristaux pour la déposition de l'or dur depend du temps aux potentiels plus négatifs. Pour l'électrode tournante à disque de carbone vitreux, un autre modèle simple de croissance cylindrique en trois dimensions présenté dans le travail donne aussi une bonne description des données expérimentales. La morphologie de la surface des dépôts de l'or fut caractérisée par les techniques de MEB et de microscope à force atomique (MFA). L'inhibition de la croissance des cristaux observée électrochimiquement fut confirmée par l'observation ex-situ en MEB et MFA. La nucléation progressive en trois dimensions a été observée pour la déposition de l'or aux potentiels plus positifs. Le MFA a confirmé que les caractéristiques des dépôts, obtenus sur le substrat de Cu aux potentiels plus positifs, est pyramidal plutôt qu'hémisphérique, en bon accord avec l'hypothèse de la croissance en cônes circulaires utilisée dans le modèle de nucléation et de croissance des cristaux. La distribution bimodale de la grosseur des cristaux est observée par MEB pour l'or dur aux potentiels plus négatifs, amenant l'évidence de l'inhibition partielle de la croissance des cristaux.
dc.language.isoeng
dc.publisherUniversité de Sherbrooke
dc.rights© Yigen Li
dc.subjectCristaux
dc.subjectDorure électrolytique
dc.titleMechanism and kinetics of gold electrodeposition from acidic solutions
dc.typeThèse
tme.degree.disciplineChimie
tme.degree.grantorFaculté des sciences
tme.degree.levelDoctorat
tme.degree.namePh.D.


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