Étude de la déposition par plasma H.F. à couplage inductif

Abstract

Afin de contrôler les propriétés des dépôts préparés par les techniques de projection par plasma, il est important d'établir les mécanismes fondamentaux qui lient l'interaction des différents paramètres d'opération. Cette étude, consacrée à la projection des métaux par plasma inductif, s'appuie sur la modélisation mathématique des écoulements plasma et des intéractions plasma-particules et plasma-substrats pour prédire les profils de dépôts préparés sur une cible fixe. Les résultats sont comparés à des mesures réalisées utilisant une poudre de nickel déposée sur un substrat de graphite utilisant un plasma Ar/H₂ à des puissances de l'ordre de 25 kW et une pression d'opération de 400 à 760 torr.